​半导体工业水(超纯水)的循环利用

半导体在加工生产中生产需要大量的水资源,而中国缺乏这一点,尤其是在芯片制造集中的地区。在半导体领域，水的循环利用是一个具有争议的话题。

实际半导体工业上:一方面，由于半导体生产用水的水质要求较高，即使废水已经经过很好的处理，仍然存在着污染生产用水的可能;另一方面，由于大部分超纯水被用作超净元件的清洗液，其受污染程度远低于原水（甚至是饮用水),分离并回收这种超纯水能带来很大的收益。

需要注意的是，只有对循环用水的水质进行准确可靠的监测，才可以调和上述矛盾。

半导体工业水(超纯水)循环利用的注意事项

由于保证水质极其重要,循环用水的处理有如下注意事项:

1、处理工艺必须可靠,且留有备用系统;

2、超纯水的水质和可用性必须不受水再利用带来的风险的影响。这意味着任何不能够在超纯水的主处理工艺中被完全去除的物质必须在进入循环水池之前利用特殊工艺去除。

此外，由于水资源的短缺，许多国家最近将水的循环利用率提高到85%，以限制使用自然界的可利用淡水，这便亟须开发新的系统以满足这一要求。

上图描述了再循环利用率在85%以上的一个工厂的架构和水量平衡。这一图表还表明水的循环利用产生的影响是普遍的并影响整个系统。

其他的影响还有：

1、出水残留物的浓度明显升高;

2、超纯水的处理单元需要处理与原水性质不同的水(低溶解性固体，更多的颗粒物等);

3、此外，生产工艺的任何改变都会对废水的处理，进而对超纯水的处理产生影响，这就要求生产厂家和（废）水处理厂之间保持密切沟通。

半导体工业水(超纯水)循环利用技术

在确定水质的污染程度不高之后，用于清洗的超纯水的处理过程如下:

1、通过超滤膜去除CMP废水中的悬浮性固体和胶体;

2、通过离子交换系统（弱阴离子树脂-强阳离子树脂-强阴离子树脂处理系统）去除离子;

3、异丙醇（IPA）是主要的有机物，其能够通过生物滤池、多层滤池、活性炭和反渗透系统的多级组合工艺而被去除。然后，水被循环进入超纯水的补给水循环入口。