​半导体超纯水工业废水的处理

半导体超纯水工业废水介绍

由于超纯水废水的排放标准越来越严格，而且新型生产工艺导致超纯水工业废水新型污染物的突现，使得水处理工艺越来越复杂，因此超纯水工业废水的处理变得越来越重要。

一个现代化的半导体生产厂会产生以下五种废水:

a. 酸碱废水;

b. 含氢氟酸（HF）废水;

c. 含有悬浮性固体和胶体物质的化学和机械抛光（CMP）废水;

d. 含铜的CMP废水;

e. 含氨和有机物的废水。

根据环境法规，这些废水需要经过特定的预处理，然后通常汇集到一起进行中和。

半导体超纯水工业废水的处理工艺介绍

新型超纯水工业废水处理系统能够处理上述所有类型的废水。

1、处理含铜的CMP废水

首先采用混凝—絮凝沉淀以及斜管式澄清池对废水进行分离，然后经活性炭去除废水中的有机物，并且采用选择性离子交换去除水中的铜（Cu<0.1mg/L)。

注意:可以采用电渗析的方法从洗脱液中回收铜。

2、处理含氢氟酸的废水

采用投加蚕化钙和澄清的方式将氢氟酸和磷酸盐一并沉淀。

3、处理含氨的废水采用生物处理系统: Biofor生物滤池系统可以在去除有机物（主要是可生物降解的乙醇）的同时进行NH;的硝化与反硝化，或者采用三段附着生长型生物处理工艺。最后，处理后的超纯水工业废水汇合到一起被送至中和池，然后经最终过滤后外排至河流。