集成电路用超纯水设备系统概述
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集成电路用超纯水设备系统概述

发布日期:2021-09-04 浏览次数:69

纯化水设备

原标题:集成电路用超纯水设备系统概述

一、集成电路超纯水设备系统概述

集成电路超纯水设备系统常用于工业中半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外,其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。随着集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

超纯水设备

二、集成电路超纯水设备应用领域

1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

2.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

3.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

4.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

5. 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

6.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

7.晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

8.集成电路生产中高纯水清洗硅片

9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

10.高品质显像管、荧光粉生产

11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

13.汽车、家电表面抛光处理

14.光电产品、其他高科技精微产品

三、集成电路用超纯水设备水质标准

超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

四、集成电路超纯水设备系统工艺流程

集成电路超纯水设备系统采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤,多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法,电阻率方可达18.25MΩ*cm

1、采用离子交换方式,其流程如下:

原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

2、采用两级反渗透方式,其流程如下:

原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

3、采用EDI方式,其流程如下:

原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点