硅片是半导体行业重要的基体材料。半导体器件生产中硅片须经过严格清洗，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，否则微量污染也会导致器件失效。那么硅片清洗为什么要用到超纯水呢？
超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，如今超纯水已在芯片、精密仪器、电镀涂装、汽车等领域广泛应用。
硅片清洗对水质要求较高，电阻率达18兆以上，而超纯水是很好的选择。超纯水是一般工艺很难达到的程度，水的电阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。
以上就是硅片清洗为什么要用到超纯水的介绍。超纯水设备应用范围在近几年越来越广泛，并且具有操作简单、水质稳定、运行成本低等特点，受到各行业的一致好评。
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