晶片清洗用去离子水设备使用的控制仪表有哪些？下面我们详细汇总：
1、低压开关：工业去离子水设备低压开关设置于高压泵前，在缺水或水压过低时保护高压泵，防止高压泵空转。
2、高压开关：设置于高压泵后，保护反渗透设备膜，防止在操作不当或反渗透设备膜阻塞时膜壳中压力过高损坏管道或反渗透设备中的膜元件。
3、水位开关：控制晶片清洗用去离子水设备的启停，在原水箱缺水时和纯水箱水满时系统停运。
4、电导仪：在线监测产水水质，可根据电导的改动判断膜的性能是否正常。
晶片清洗用去离子水设备使用的控制仪表有哪些
发布日期：2020-12-04 浏览次数：1854
- 相关推荐：电子工业去离子水设备在安装前需要检查什么？ 涂装行业用去离子水设备技术特征有哪些 汽车涂装用去离子水设备回收率是如何构成的 工业纯水设备装配需要检查哪些呢？ 小型工业去离子水设备在夏季运行效率降低为什么 EDI去离子水设备日常维护需要注意哪些事项 如何分辨涂装用超纯水设备的好坏？ 超纯水装置中EDI膜块受损的原因有哪些 玻璃清洗专用超纯水设备表面被腐蚀了怎么办？ 去离子水装置更换耗材及维修注意事项有哪些 EDI电除盐系统性能特点有哪些 EDI除盐系统相比传统方式的优越之处有哪些 多晶硅材料超纯水生产常用工艺有哪些 超纯水设备中EDI膜块维修方法是什么 为什么有的时候工业纯化水设备的运行数据发生异常？ 如何降低工业超纯水设备的运行成本？ 硅片清洗超纯水设备都会用到哪些常用的仪表？ 实验室超纯水设备厂家为您分享选择注意事项 EDI系统在运行启动过程中应如何维护
