晶片清洗用去离子水设备是我国晶片生产行业常用的水处理设备，一些厂家由于生产产品量较大，所以所需清洗用水也较大。下面小编为大家详细介绍一下提升晶片清洗用去离子水设备的产水量的方法：
一、在晶片清洗用去离子水设备前配置一款净水设备改善水源
想提高产水量，可以从改善水源方面进行。晶片清洗用去离子水设备产水量除了机器本身之外，还和水源纯净度有关。在机器处理原水时，先通过净水设备净化一遍，去除水中大部分杂质，然后在交给晶片清洗用去离子水设备净化，能大大提升纯水产量。
二、配置比较大的压力桶
晶片清洗用去离子水设备净水后会储存在压力桶中，当用户有需求时，打开压力桶排放，压力桶的储水量和产水量成正比。如果能配置比较大的压力桶，提升储水量，就能增加更多产水量。
三、多配置一些同类型压力桶
压力桶储水量决定去晶片清洗用去离子水设备产水量，如果不想用大型压力桶，还可以通过三通接头连接多款同类压力桶，这样也能提升产水量。
四、更换废水排放少的废水比
废水比的主要作用是调节纯水和废水的比例，想提升纯水产量，可以更换废水排放较少的废水比，废水排放少了，纯水自然会有所增加。
以上就是小编为大家介绍的全部内容，对于晶片清洗用去离子水设备我们在使用的过程中要做好设备的保养工作，这样即保障出水水质，又保护了设备。
