在集成电路超纯水设备中有很多的预处理措施，要处理的水都是经过预处理后才到达反渗透膜，但是在长时间使用后还是产生沉积和结垢，使膜孔堵塞，产水量下降，因此对污染膜进行定期的清洗是必要的。那么怎样对集成电路超纯水设备的反渗透膜进行清洗呢？
一、清洗原则：
了解当地水质特征，对污染物进行化学分析，通过结果分析，来选择最佳的清洗剂和清洗方法，为特定的给水条件下找出最佳方法提供依据。
二、清洗条件：
1、产品水量比正常时下降5%-10%。
2、为保正产品水量，修正温度后的供水压力增加10%-15%。
3、透过水质电导率(含盐量增加)增加5%-10%。
4、多段RO系统，通过不同段的压降明显增加。
三、清洗方法：
进行低压清洗;有必要的情况下进行机械清洗;再进行化学清洗;有条件的可以超声清洗;在线清洗是一种很好的方法，价格昂贵。
四、清洗步骤：
清洗单段系统：(1)配置清洗液；(2)低流量输入清洗液；(3)循环；(4)浸泡；(5)高流量水泵循环；(6)冲洗；(7)重启系统。
关于怎样对集成电路超纯水设备的反渗透膜进行清洗的介绍就到这里了，反渗透膜需要清洗，但反渗透膜系统不能等到污染很严重后才去清洗，这样将会增加清洗难度，也使清洗步骤增多和清洗时间延长。
